半导体芯片加工废水怎么处理|半导体芯片加工废水如何处理
品牌环境
该半导体芯片公司最靠近长半圆地,核心产量85屏幕尺寸和125屏幕尺寸晶圆,日废气废用水量约2000吨。考虑到产量生产流水线有难度,废池中内含好几种难可降解有机会物和天价属正离子,过去工作手段无从要求愈发要严的废气条件。
化工废水材料及渠道
生产污水处理方法重点來是因为3个方式:晶圆分割机生产污水处理方法含带多硅粉和分割机液残留物;生物机械设备制造镜面抛光生产污水处理方法所含电解质溶液硅和研磨设备颗料;刻蚀除污生产污水处理方法含带氟化物、铜铝离子等天价属;光刻流程生产污水处理方法则含带光阻剂等有机质废弃物物。水源优点是COD高(800-1500mg/L)、氟化物溶度高(200-400mg/L)、悬屏物多且含带少量天价属。
外理制作制作工艺图
利用"化学预治理+血生化治理+长度治理"的组和技术:
调高池动态平衡水源蓄水量
混疑石雕文化沉淀除掉透明桌面物和胶体溶液东西
化工发展法特定整理氟化物,加药钙盐组成氟化钙发展
水解反应硝化作用池不断提高废液可生物化性
接觸被氧化池吸附可挥发空气大气污染物
亲水性炭过滤塔做深入补救
膜区分装置保证有水出饮用水不稳定性
真对含铜污水分开设立阴离子交流系统,回报有颜值的合金铜。
从而治疗效果
新项目建好后启用安稳,有水出COD<50mg/L,氟化物氧化还原电位<5mg/L,铜铝离子氧化还原电位<0.3mg/L,多种指標均高于各国《光学工业化的水破坏物进行尾气排放标准条件条件》(GB 39731-2020)。常年可极大减少COD进行尾气排放标准条件约300吨,氟化物进行尾气排放标准条件约50吨,收回铜废金属约2吨,保证了生态环境效用与经济增长效用的合作共赢。